| 氧化钨基本信息 | |
| 分子式 | WO₃ |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 1314-35-8 |
| 摩尔质量 | 231.84 g/mol |
| 密度 | 7.16 g/cm³ |
| 熔点 | 1473 ℃ |
| 沸点 | 1700 ℃ |
| 溶解性（水） | 不溶于水，溶于氢氟酸、浓碱 |
1. 核心光学特性：在可见光至近红外波段具有可调的电致变色光学特性，可通过外加电场精准调控折射率与透过率；同时具备高折射率、低光学损耗与优异的化学稳定性，是智能光学窗、电致变色光学器件的核心材料。
2. 产品形态：可定制化高纯烧结陶瓷靶材，适配磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发等主流真空镀膜工艺，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积，与玻璃、硅、ITO 等多种光学 / 导电基底完全兼容。
3. 工艺优势：沉积的薄膜致密度高、电致变色响应快、循环稳定性优异，可适配智能光学窗、光电集成器件的服役需求，同时与半导体 CMOS 工艺兼容，便于规模化制备。
1. 电致变色光学与智能窗：作为电致变色光学涂层，广泛应用于智能调光窗、节能建筑玻璃、汽车防眩目后视镜等，通过电场调控实现可见光 - 红外透过率的动态切换，兼具节能与光学调控功能。
2. 红外光学镀膜与智能光学系统：用于制备红外波段可调谐滤光片、智能红外窗口涂层，WO₃可动态调控红外反射 / 透过性能，应用于红外成像、红外传感等领域，实现红外光学系统的主动调控。
3. 光学传感与光催化：用于制备光学传感器的敏感层、光催化光学薄膜，应用于气体检测、生物光学传感、环境监测等领域，利用其气致变色与光催化特性实现高灵敏度光学检测。
4. 显示与光电器件：用于制备电致变色显示器件、柔性光电子器件的功能层，兼具高透过性与电致变色特性，提升显示器件的对比度与节能性能，适配柔性显示、可穿戴光学设备的应用需求。
5. 集成光学与光子学器件：用于制备硅基光电子集成器件的光波导、光调制器功能层，利用其可调折射率特性，实现光信号的动态调制与传输，适配 5G/6G 光通信系统；同时用于超材料、超表面的功能层，实现对光的动态调控。
