| 氟化钇基本信息 | |
| 分子式 | YF₃ |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 13709-49-4 |
| 摩尔质量 | 195.91 g/mol |
| 密度 | 6.4 g/cm³ |
| 熔点 | 1150 ℃ |
| 沸点 | 2200 ℃ |
| 溶解性（水） | 难溶于水，溶于强酸，不溶于有机溶剂 |
1. 核心光学特性：在真空紫外至中红外波段（0.25μm~8μm）具有超高透过率，红外折射率低且稳定（n≈1.58@10.6μm），光学损耗极低；同时具备优异的化学稳定性、高激光损伤阈值与抗潮解性能，是光学多层介质膜的核心低折射率材料。
2. 产品形态：可定制化高纯烧结颗粒 / 靶材，适配电子束蒸发、热蒸发、磁控溅射等主流真空镀膜工艺，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积，与锗、硅、硫化锌、硒化锌等多种红外光学基底完全兼容。
3. 工艺优势：沉积的薄膜致密度高、附着力强、环境稳定性优异，可抵御潮湿、高温、强辐射等严苛环境，适配航天红外光学器件、高功率激光系统的长期服役需求，同时与半导体工艺兼容，便于光电集成器件的规模化制备。
1. 红外光学镀膜与多层介质膜：作为多层介质膜的核心低折射率层，广泛应用于长波红外（8~14μm）滤光片、分光镜、增透膜、高反膜及红外窗口涂层，配合高折射率材料（如 Ge、ZnS）构建高反射率或带通膜系，大幅提升红外光学系统的透过率与抗反射性能，是红外成像系统的关键镀膜材料。
2. 高功率激光与光学防护：用于制备高损伤阈值激光窗口涂层，适配 CO₂激光（10.6μm）、超快激光系统的光学窗口，其低色散、低吸收特性可有效减少高功率激光对光学器件的热损伤与能量损耗，保障激光系统长期稳定运行。
3. 紫外光学与光学传感：用于真空紫外（VUV）至近紫外波段的增透膜与光学涂层，应用于紫外光谱仪、空间紫外探测、光刻镜头等领域，YF₃在紫外波段具有高透过性，可有效提升紫外光学器件的成像清晰度与性能。
4. 红外成像与探测器件：用于红外热像仪、红外探测器、红外成像系统的光学涂层，提升红外成像的灵敏度与空间分辨率，适配车载、安防、航天航空等复杂环境下的红外光学应用。
5. 光学晶体与光纤：用于制备低损耗红外光学晶体与光纤预制棒，适配中红外激光传输、医疗红外诊断等领域；同时作为稀土掺杂光纤原料，用于制备高性能通信光纤，提升光纤通信系统的信号传输质量与稳定性。
