| 陶瓷钛酸镧基本信息 | |
| 分子式 | LaTiO₃ |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 12031-47-9 |
| 摩尔质量 | 244.78 g/mol |
| 密度 | 5.6~6.0 g/cm³ |
| 熔点 | 1700~1900 ℃ |
| 沸点 | 3000~3500 ℃ |
| 溶解性（水） | 不溶于水，溶于氢氟酸、热浓酸 |
1. 核心光学特性：
紫外至中红外波段（0.3μm~8μm）具有高透过性，可见光折射率高且稳定（n≈2.1~2.3@550nm），光学损耗极低。
兼具高硬度、高化学稳定性与耐高温性能，可在极端环境下保持光学与力学性能稳定。
钙钛矿结构赋予其优异的电光、压电响应特性，可实现光信号的主动调控。
2. 产品形态：
可定制化高纯烧结颗粒 / 靶材，适配磁控溅射、电子束蒸发、离子束沉积等主流真空镀膜工艺。
与玻璃、硅、石英、锗等多种光学基底完全兼容，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积。
3. 工艺优势：
陶瓷烧结致密度高、溅射稳定性好，薄膜附着力强、耐磨耐腐蚀性优异。
相比晶体态，陶瓷态工艺成本更低、可制备大尺寸靶材，适配规模化镀膜生产。
可通过晶相调控精准匹配折射率，满足多层膜设计与光电器件的定制化需求。
适配航天、高功率激光、半导体等严苛环境，长期服役稳定性强。
1. 光学镀膜与多层介质膜作为多层介质膜的核心高折射率层，广泛应用于可见光 - 近红外滤光片、分光镜、增透膜、高反膜及激光谐振腔反射镜，大幅提升光学系统的反射率、透过率与抗损伤阈值，是可见光光学系统的核心镀膜材料。
2. 高功率激光与光学防护用于制备高损伤阈值激光防护涂层、激光窗口涂层，应用于高功率激光系统、激光加工设备、激光防护镜，LaTiO₃陶瓷薄膜具备极高的激光损伤阈值，可有效防护高功率激光对光学器件的损伤。
3. 电光调制与光通信器件利用其钙钛矿结构的电光响应特性，制备电光调制薄膜、光开关涂层，应用于光通信系统（如光纤调制器、光隔离器），适配超快激光、5G/6G 光通信的信号调控需求。
4. 半导体光电集成用于硅基光电集成器件的功能涂层 / 过渡层，提升光电集成器件的光学性能与稳定性，适配半导体芯片制造的高端镀膜需求，同时与 CMOS 工艺兼容，便于规模化制备。
5. 光学防护与耐磨涂层用于制备光学元件的耐磨、抗腐蚀涂层，结合其高硬度与化学稳定性，提升光学器件的耐刮擦、抗腐蚀能力，延长使用寿命，适配车载、航天、工业等复杂环境下的光学应用。
