| 钛粒基本信息 | |
| 分子式 | Ti |
| 纯度 | 5N |
| CAS号 | 7440-32-6 |
| 摩尔质量 | 47.87 g/mol |
| 密度 | 4.51 g/cm³ |
| 熔点 | 1668 ℃ |
| 沸点 | 3287 ℃ |
| 溶解性（水） | 不溶于水，溶于氢氟酸、热浓硫酸、浓碱 |
1. 核心光学与物理特性：
可见光至近红外波段（0.4μm~2.5μm）具备高折射率、高附着力、低光学损耗特性，是光学多层介质膜的核心过渡 / 高折射率材料；中长波红外（3~14μm）波段可实现低损耗、可调折射率特性，适配红外光学系统需求。
兼具超高硬度、高化学稳定性、耐高温与优异的生物相容性，可在极端环境下保持光学与力学性能稳定。
2. 产品形态：
可定制 ** 不同尺寸（直径 1~10mm）、形状（粒状 / 柱状 / 片状）** 的高纯钛粒，适配磁控溅射、电子束蒸发等主流真空镀膜工艺。
与玻璃、硅、蓝宝石、红外光学晶体等多种光学基底完全兼容，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积。
3. 工艺优势：
金属致密度高、溅射 / 蒸发稳定性好，无粉尘、无飞溅，成膜一致性高，适配规模化镀膜生产。
可精准控制蒸发速率，提升镀膜工艺的稳定性，薄膜附着力强、耐磨耐腐蚀性优异。
适配航天、高功率激光、半导体等严苛环境，长期服役稳定性强，抗辐射、抗热震性能优异。
1. 光学镀膜与多层介质膜作为多层介质膜的核心高折射率 / 过渡层，广泛应用于可见光 - 近红外滤光片、分光镜、增透膜、高反膜及激光谐振腔反射镜，大幅提升光学系统的反射率、透过率与抗损伤阈值，是可见光光学系统的核心镀膜材料。
2. 高功率激光与光学防护用于制备高损伤阈值激光防护涂层、激光窗口涂层，应用于高功率激光系统、激光加工设备、激光防护镜，钛薄膜具备极高的激光损伤阈值，可有效防护高功率激光对光学器件的损伤。
3. 半导体光电集成用于硅基光电集成器件的功能涂层 / 过渡层，提升光电集成器件的光学性能与稳定性，适配 5G/6G 光通信、半导体芯片制造的高端镀膜需求，同时与 CMOS 工艺兼容，便于规模化制备。
4. 光学防护与耐磨涂层用于制备光学元件的耐磨、抗污、防水防指纹涂层，结合其超高硬度与化学稳定性，大幅提升光学器件的耐刮擦、抗腐蚀能力，延长使用寿命，适配车载、航天、工业等复杂环境下的光学应用。
5. 导电光学涂层与光电器件利用其高导电性与光学性能，制备导电光学涂层、电极涂层，应用于光电器件、显示面板（OLED/Micro LED）的电极 / 过渡层，提升器件的导电性能与光学隔离性能。
