硅铝氧化物是低折射率混合膜料,用于镀制增透膜及减反膜,特别适合于塑料衬底。它的折射率和硬度和SiO2相似,但镀膜可操作性、环境适应性比SiO2要好,膜层应力更小,其透过范围从330nm到2.0μm。但氧化硅熔点1600℃,氧化铝熔点2050℃,450℃的熔点差导致蒸发速率不稳定,氧化铝蒸发困难。我们解决了这个难题,我司该类产品镀膜稳定性好,改善薄膜的光洁度和可擦试性,提高了环测条件。
(1) 原料:湿法球磨+喷雾造粒;
(2) 工艺:完善、重复的生长工艺;
(3) 优秀的表面处理;
(4) 微孔结构:光斑易对焦,杜绝光斑能量反射。