| 氮化钛基本信息 | |
| 分子式 | TiN |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 25583-20-4 |
| 摩尔质量 | 61.88 g/mol |
| 密度 | 5.43 g/cm³ |
| 熔点 | 2950 ℃ |
| 沸点 | 高温分解，无明确沸点 |
| 溶解性（水） | 不溶于水 |
1、核心光学特性：在可见光波段呈现高折射率（n≈2.0~2.4）、高消光系数，具备金属光泽与宽波段高反射特性；同时兼具超高硬度、高热导率、优异的化学稳定性，可通过调控氮含量精准匹配光学器件的反射率、应力需求。
2、产品形态：定制化陶瓷靶材 / 合金靶材，适配磁控溅射、电子束蒸发、离子束沉积等主流镀膜工艺，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积，与半导体 CMOS 工艺兼容。
3、工艺优势：薄膜致密度高、附着力强，可作为光学多层膜的高折射率层、阻挡层、反射层，同时兼具电学与力学性能，适配严苛的光学器件服役环境。
用于制备高折射率光学薄膜，作为多层介质膜的高折射率层，应用于光学滤光片、分光镜、增透膜、高反镜等，提升光学器件的反射率、抗损伤阈值与环境稳定性。
用于红外光学器件的防护涂层，利用其高化学稳定性与高硬度，提升红外镜头、红外探测器的抗腐蚀、抗磨损性能，同时保持红外波段高透过性。
用于制备OLED、Micro LED、LCD 等显示面板的电极与光学涂层，兼具低电阻率与高光学透过性，提升显示器件的发光效率与使用寿命。
作为光电器件的扩散阻挡层，防止光学涂层与基底、电极之间的元素互扩散，提升光电器件的长期稳定性。
用于制备激光防护涂层、高损伤阈值光学薄膜，应用于激光谐振腔、激光加工设备、激光防护镜等，TiN 薄膜具备高激光损伤阈值，可有效防护高功率激光对光学器件的损伤。
用于太阳能光热发电的选择性吸收涂层，实现高太阳光吸收率、低红外发射率，大幅提升太阳能转换效率。
用于制备硅基光电子集成器件的光波导、光调制器电极，兼具高折射率与低损耗，实现光信号的高速调制与传输，适配 5G/6G 光通信系统。
用于超材料、超表面的功能层，实现对光的精准调控，应用于超透镜、光学计算、量子光学等前沿领域。
