| 二氧化钛基本信息 | |
| 分子式 | TiO₂ |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 13463-67-7 |
| 摩尔质量 | 79.87 g/mol |
| 密度 | 金红石型：4.26 g/cm³；锐钛矿型：3.78 g/cm³ |
| 熔点 | 1843 ℃ |
| 沸点 | 高温分解，无明确沸点 |
| 溶解性（水） | 不溶于水 |
核心光学特性：在可见光 - 近红外波段具备超高折射率（金红石型 n≈2.4~2.7@550nm）、极低光学损耗，同时兼具优异的化学稳定性与高激光损伤阈值；可通过晶型、氧空位精准调控折射率与光学响应，是多层介质膜的核心高折射率材料。
产品形态：可定制化陶瓷靶材 / 合金靶材，适配磁控溅射、电子束蒸发、离子束沉积等多种主流镀膜工艺，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积，与玻璃、硅、石英等多种光学基底完全兼容。
工艺优势：沉积的薄膜致密度高、附着力强、环境稳定性优异，可适配光学器件的严苛服役环境，同时与半导体 CMOS 工艺兼容，便于光电集成器件的规模化制备。
1、光学镀膜与多层介质膜：作为多层介质膜的核心高折射率层，广泛应用于光学滤光片、分光镜、增透膜、高反镜、激光谐振腔反射镜等，大幅提升光学器件的反射率、透过率与抗损伤阈值，是可见光光学系统的核心镀膜材料。
2、显示与光电器件：用于制备 OLED、Micro LED、LCD 等显示面板的光学增透膜、电极保护层，兼具高透过性与高绝缘性，提升显示器件的发光效率、对比度与使用寿命；同时作为光电器件的扩散阻挡层，防止元素互扩散，提升器件长期稳定性。
3、激光与光学防护器件：用于制备高损伤阈值激光防护涂层、光学窗口涂层，应用于高功率激光系统、激光加工设备、激光防护镜等，TiO₂薄膜具备极高的激光损伤阈值，可有效防护高功率激光对光学器件的损伤。
4、光催化与光学传感：用于制备光学传感器的敏感层、光催化光学薄膜，应用于环境监测、生物光学传感、水质检测等领域，利用其宽禁带特性实现高灵敏度光学检测；同时用于太阳能电池的减反层，提升光伏器件的光吸收效率与发电性能。
5、集成光学与光子学器件：用于制备硅基光电子集成器件的光波导、光调制器功能层，利用其高折射率与低损耗特性，实现光信号的高速调制与传输，适配 5G/6G 光通信系统；同时用于超材料、超表面的功能层，实现对光的精准调控。
