| 氟化钠基本信息 | |
| 分子式 | NaF |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 7681-49-4 |
| 摩尔质量 | 41.99 g/mol |
| 密度 | 2.56 g/cm³ |
| 熔点 | 993 ℃ |
| 沸点 | 1700 ℃ |
| 溶解性（水） | 易溶于水 |
1. 核心光学特性：在紫外至红外波段（0.25μm~15μm）具有高透光性，紫外截止波长约 120nm，红外折射率低且均匀（n≈1.32@10.6μm），光学损耗极低；同时具备良好的紫外抗反射特性与化学稳定性，是紫外光学系统的关键镀膜材料。
2. 产品形态：可定制化高纯烧结靶材 / 晶体靶材，适配电子束蒸发、热蒸发、磁控溅射等主流真空镀膜工艺，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积，与锗、硅、蓝宝石等多种红外 / 紫外光学基底兼容。
3. 工艺优势：沉积的薄膜纯度高、红外透过性优异、环境稳定性强，难溶于水可抵御潮湿环境腐蚀，适配高功率激光系统、航天红外光学器件的严苛服役环境。
1. 红外光学镀膜与多层介质膜：作为多层介质膜的核心低折射率层，广泛应用于长波红外（8~14μm）滤光片、分光镜、增透膜、高反膜及红外窗口涂层，大幅提升红外光学系统的透过率与抗反射性能，是红外成像系统的核心镀膜材料。
2. 真空紫外（VUV）光学器件：用于真空紫外光谱仪、空间紫外探测、光刻镜头等领域的增透膜与窗口涂层，NaF 在 0.25~0.3μm 真空紫外波段具备高透过性，可有效提升紫外光学器件的成像清晰度与性能。
3. 高能激光与光学防护：用于制备高损伤阈值红外激光防护涂层、激光窗口涂层，应用于高功率 CO₂激光系统（10.6μm）、激光加工设备、红外激光防护镜，NaF 薄膜具备极低红外吸收与高激光损伤阈值，可有效防护高功率红外激光对光学器件的损伤。
4. 红外成像与探测器件：用于红外热像仪、红外探测器、红外成像系统的光学涂层，提升红外成像的灵敏度与空间分辨率，适配车载、安防、航天航空等复杂环境下的红外光学应用。
5. 特种光学玻璃与光纤：作为光学玻璃的掺杂剂与助熔剂，用于制备低折射率红外光学玻璃与红外光纤预制棒，实现中长波红外光的低损耗传输，应用于红外激光传输、红外传感、医疗红外诊断等领域。
