| 氟化镱基本信息 | |
| 分子式 | YbF₃ |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 13760-80-0 |
| 摩尔质量 | 230.05 g/mol |
| 密度 | 8.27 g/cm³ |
| 熔点 | 1157 ℃ |
| 沸点 | 2200 ℃ |
| 溶解性（水） | 难溶于水，溶于强酸，不溶于有机溶剂 |
1. 核心光学特性：在红外至真空紫外波段（0.15μm~12μm）具有高透过性，红外折射率低且稳定（n≈1.48@10.6μm），光学损耗极低；同时具备极高的激光损伤阈值、优异的化学稳定性与抗潮解性能，是红外多层介质膜的核心低折射率材料。
2. 产品形态：可定制化高纯烧结靶材 / 晶体靶材，适配电子束蒸发、热蒸发、磁控溅射等主流真空镀膜工艺，可实现大面积、高均匀性薄膜沉积，与锗、硅、硫化锌、硒化锌等多种红外光学基底完全兼容。
3. 工艺优势：沉积的薄膜致密度高、红外透过性优异、环境稳定性强，可抵御潮湿、高温等严苛环境，适配航天红外光学器件、高功率激光系统的服役需求，同时可通过工艺调控精准匹配折射率，满足多层膜设计要求。
1. 红外光学镀膜与多层介质膜：作为多层介质膜的核心低折射率层，广泛应用于长波红外（8~14μm）滤光片、分光镜、增透膜、高反膜及红外窗口涂层，大幅提升红外光学系统的透过率与抗反射性能，是红外成像系统的核心镀膜材料。
2. 高功率激光与光学防护：用于制备高损伤阈值红外激光防护涂层、激光窗口涂层，应用于高功率 CO₂激光系统（10.6μm）、激光加工设备、红外激光防护镜，YbF₃薄膜具备极低红外吸收与超高激光损伤阈值，可有效防护高功率红外激光对光学器件的损伤。
3. 真空紫外（VUV）光学器件：用于真空紫外光谱仪、空间紫外探测、极紫外光刻等领域的增透膜与窗口涂层，YbF₃在 0.15~0.3μm 真空紫外波段具备高透过性，可有效提升紫外光学器件的成像清晰度与性能。
4. 红外成像与探测器件：用于红外热像仪、红外探测器、红外成像系统的光学涂层，提升红外成像的灵敏度与空间分辨率，适配车载、安防、航天航空等复杂环境下的红外光学应用。
5. 特种红外光学晶体与光纤：用于制备稀土掺杂红外光学晶体、红外光纤预制棒，实现中长波红外光的低损耗传输，应用于红外激光传输、红外传感、医疗红外诊断等领域。
