| 氮化铝钪基本信息 | |
| 分子式 | AlScN |
| 纯度 | 4N |
| CAS号 | 氮化铝 CAS：24304-00-5 氮化钪 CAS：25764-12-9 |
| 摩尔质量 | ~41.95 g/mol |
| 密度 | ~3.3 g/cm³ |
| 熔点 | >2000 ℃ |
| 沸点 | 高温分解，无明确沸点 |
| 溶解性（水） | 不溶于水 |
1、核心光学特性：超宽带隙（最高 6.2 eV），覆盖深紫外 - 可见光 - 近红外全波段高透过性；具备极强的二阶非线性光学效应（χ⁽²⁾可达铌酸锂的 2 倍），同时兼具高压电响应、高热导率、高击穿场强。
2、产品形态：定制化陶瓷靶材 / 合金靶材，适配磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）等光学镀膜工艺，可精准调控 Sc 掺杂比例（10%~40%），匹配不同光学器件需求。
3、工艺优势：可实现大面积、均匀性薄膜沉积，与半导体 CMOS 工艺兼容，是下一代光电集成器件的核心材料。
用于制备高折射率、高稳定性光学薄膜，作为多层介质膜的高折射率层，应用于激光谐振腔反射镜、高反镜、滤光片等，提升光学器件的反射率、抗损伤阈值与环境稳定性。
用于红外光学器件的防护涂层，利用其高化学稳定性，提升红外镜头、红外探测器的抗腐蚀、抗磨损性能。
